的技术到下一代45纳米，再下一代是28纳米，在下一代是14纳米，然后是7纳米5纳米
光刻机这东西的运行原理其实比较简单。
首先是光源部件，激光器发光，经过矫正后，进入能量控制器、光束成型装置等设备，再进入光掩膜台。
光掩膜台上面放的就设计公司做好的光掩膜，之后经过物镜投射到曝光台。
曝光台上放置着8寸或者12英寸晶圆片，上面涂抹了光刻胶，具有光敏感性，紫外光就会在晶圆上蚀刻出电路。
的技术到下一代45纳米，再下一代是28纳米，在下一代是14纳米，然后是7纳米5纳米
光刻机这东西的运行原理其实比较简单。
首先是光源部件，激光器发光，经过矫正后，进入能量控制器、光束成型装置等设备，再进入光掩膜台。
光掩膜台上面放的就设计公司做好的光掩膜，之后经过物镜投射到曝光台。
曝光台上放置着8寸或者12英寸晶圆片，上面涂抹了光刻胶，具有光敏感性，紫外光就会在晶圆上蚀刻出电路。