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第四百六十四章:超精密抛光(2 / 4)

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通过精密的设备,韩元测量了一下,抛光面的表面粗糙度已经低至二十纳米,如果换算成抛光目数,在一百二十万目。

这个目数,已经是他数控设备加工的极限了,但对于应用在太空望远镜的镜面上来说,还不够。

他的要求时将镜面表面的表面粗糙度低至五纳米,抛光目数达到三百六十万目。

或许普通人对于这个数据没什么概念,但简单的换算一下就知道了。

表面粗糙度达到十纳米的话,将这一块六边形的铍铱合金镜面的面积放到到整个华国大小,它整体的起伏不会超过五厘米。

五厘米,还没普通人中指长。

要想九百六十万平方公里的面积表面的高度起伏不超过五厘米,可见有多难。

要加工到这种程度,在普通的物理实验室里面是不行的,即便是数控设备也做不到。后续需要转移到超净洁无尘工作室里面,使用专门的超精密抛光设备来进行。

当然,这是对于他来说的。

如果是放到现实世界,三十纳米以下的抛光加工其实是需要手工进行的。

在超精密抛光这一块,以人类的科技,机械还做不到将其加工到五纳米的表面粗糙度,顶多能做到三十纳米左右的精密加工。

比如韦伯望远镜的镜面加工,需要先通过机械研磨表面,使其接近其最终形状,并且接近三十纳米的抛光度。

完成这一步后,镜面再通过人工小心地平滑和抛光,一直重复平滑和抛光的过程,直到每个镜片都近乎完美,达到十纳米的表面粗糙度。

这也是韦伯望远镜一鸽再鸽的原因之一。

因为最初的时候,NASA找不到可以完成这一抛光度的机械,后面改用手工尝试后才完成。

不过即便是机械抛光的光滑度比不上手动,在现代工业中,特别是现代电子工业中,机械超精密抛光依旧是加工的‘灵魂’。

不仅仅是‘平坦化’‘光滑化’不同的材料,而且要它还需要平坦化多层材料。

比如制造芯片使用单晶硅材料。

以晶圆的制造为例,抛光是整个工艺的最后环,目的是改善晶片加工前一道工艺所留下的微小缺陷以获得最佳的平行度。

需要通过超精密抛光使得几毫米见方的硅片通过这种‘全局平坦化’形成上万至百万晶体管组成的超大规模集成电路。

而随着芯片的发展,目前的超精密抛光技术已经能达到三十纳米左右。

这个级别对于芯片的制造已经足够了,但对于韦伯望远镜这种,还远远不够。

韦伯望远镜的镜面粗糙度低至十纳米,所以后续需要手工进行抛光。

当然,对于韩元来说,十纳米级别的抛光并不需要他人工进行。

他脑海中有中级工业设备应用知识信息,里面有对应的工业抛光设备可以做到这个级别甚至是更低的抛光。

通过数控设备初步完成铍铱合金镜面的加工后,韩元将其从爪盘上取下来后,光洁的表面顿时映射出一个帅气的人脸。

直播间里面的观众对于他继续加工已经光滑如镜的合金镜面很是感兴趣,在弹幕上讨论个不停。

这光滑度,比我家镜子还要牛逼。

金属加工到极致,果然可以当做镜子使用,历史上铜镜诚不欺我!

看到这样锃亮的镜面,我就想在上面留下一个油乎乎的大手印。

强迫症患者会打死的。

楼素昂的您就是智子吗,专门干扰科学的发展?

我在想,这种镜子上要是落下了灰尘,该怎么擦干净?用布吗?还是用卫生纸。

对镜子“哈”一下,然后用袖子擦,因为用手擦会留下指纹

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